Разделы


Рекомендуем
Автоматическая электрика  Расчет вибропрочности конструкции 

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 [ 31 ] 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154

Особенности конструирования РЭА на микросхемах и мииросборках .

РЭА одного и того же назначения, выполненная на ЭРЭ или на ИС и МС, по схемотехническим и конструк-торско-технологическим принципам будет представлять собой различные изделия, общими у которых будут только ТТ. в лучшем случае в основу разработки РЭА на ИС и МС можно положить лишь функциональную схему аппаратуры, подлежащей Ыйкроминиатиризацяи, да общие идеи компоновочных схем конструкции.

Одной нз главных задач разработчика и конструктора РЭА на ИС и МС является отказ от применения в конструкциях аналоговых устройств на крупногабаритных ЭРЭ. Эго достигается путем прямой миниатюризации (что не всегда возможно и имеет свои пределы), либо изменением принципов преобразования сигналов и электрической схемы с таким расчетом, чтобы функции схемного узла выполняли бы только ИС. Например, аналоговый /?С-интегратор заменяют цифровым, резонансный усилитель iC-широкополосным С-усилителем с интегральным полосовым или цифровым фильтром.

Примеры характерных аналогов, имеющих примерно одинаковые функции, но построенных на различных схемотехнических принципах, следующие:

мастику ЛН (ТУ МХП 3052-55). клей АК-20 (ТУ 6-10-1293-72) или клеи и лаки, указанные в ЧТУ на применение ИС. ИС с планарными выводами можно монтировать как с зазорами, так и без них.

Гибридные ИС повышенной степени интеграции рекомендуется крепить с помощью указанной мастики или клея. Допускается применение клеев дугих марок, согласованных в установленном порядке. Формовку выводов ИС рекомендуется производить в соответствии с указаниями ОСТ4Г0.010.030.

В особых, технически обоснованных случаях допускается отступление от указанных рекомендаций, если соблюдаются требования соответствующих ГОСТ или ОСТ и ТУ на ИС. Однако в.этом случае формовку выводов, вариант установки ИС на ПП и установочные размеры необходимо оговаривать в сборочном чертеже и согласовывать с головной организацией по применению ИС или головным технологическим предприятием соответствующего министерства или ведомства. Эти требования связаны с тем, что при неправильной формовке можно повредить проходные изоляторы у выводов ИС, нарушить герметичность корпусов, что влечет за собой выход ИС из строя вследствие коррозии токоведущих дорожеж на поверхности подложки или кристалла,

1>асстояние от корпуса ИС до места изгиба, т. е. до оси вывода, изогнутого под углом 90°, или до места ириложения паяльника или до зеркала припоя, должны соответствовать требованиям ОТУ и ЧТУ на ИС. При отсутствии в ГОСТ, ОСТ или ТУ указаний о расстояниях до места изгиба при одноразовой гибка или до места пайки обычно принимают следующие расстояния от корпуса ИС: до оси изогнутого вывода не менее 2 мм, до места пайки не менее 2,5 мм {при толщине ПП 1 мм).

Для сохранения работоспособности ИС, расположенных на ПП с максимально возможной плотностью, необходимо обеспечить: конвекцию или теплостоки для тепло-нагруженных ИС, кроме того, тер-мо- и магнйточувствительные ИС должны быть отдалены от элемен-

тов, выделяющих большое количество тепла или являющихся источниками магнитных полей, доступ к любой ИС и возможность ее замены в ремонтируемой РЭА, возможность ручной или механизированной установки ИС, их групповой пайки и покрытия Влагозащитным лаком в требуемых mecTax, установку массивных ИС (в РЭА, ра-ботающей в условиях значительных механических воздействий) вблизи точек крепления ПП.

Если какое-нибудь из перечисленных правил не удается соблюсти, то придется уменьшить плотность компоновки ИС на всей или части ПП.



РЭА на дискретных ЭРЭ

Частотно-избирательные узлы типа иа дискретных ЭРЭ

5. Характерные типовые конструкции РЭА РЭА на ИС иМС .

Интеграторы аналогового типа Линии задержки на дискретных ЭРЭ,

ультразвуковые объемного типа

( механические ) ЗУ на ферритовых сердечниках Аналоговые устройства автоматики

на дискретных ЭРЭ Объемные волноводы и элементы

СВЧ трактов

Пленочные индуктивности, активные интегральные фильтры, пьезо- и цифровые фильтры на ИС и МС Цифровые накопители на ИС Интегральные линии задержки на-поверхностных волнах и цифровые ИС

Полупроводниковые ЗУ на ИС иМС Цифровые устройства автоматики иа ИС

Микрополосковые линии передачи и пленочные элементы СВЧ трактов

Методы конструировании РЭА по мере развития микроэлектроники претерпевали коренные изменения. При конструировании РЭА первого и второго поколений разработчики старались использовать в схемах минимально возможное количество ЭРЭ, особенно таких, как лампы и транзисторы из-за их относительно высокой стоимости и габаритов и понижения надежности РЭА по. мере увеличения количества ЭРЭ. Ввиду относительно большой массы и объема ЭРЭ увеличение их числа в РЭА первого и второго пд.колений быстро увеличивало общие массу и габариты.

При конструировании РЭА третьего и четвертого поколений (которую иногда называют микроэлек-тронной аппаратурой МЭА) сформировался иной подход, к конструированию, cytb которого в использовании ИС возможно большей степени интеграции. Это объясняется, тем, что ЭРЭ (в том числе и активные), входящие в состав ИС, намного дешевле и меньше по размерам дискретных аналогов, что позволяет существенно повысить надежность РЭА, уменьшить массу и габариты.

Конструкции РЭА на ИС и МС можно разделить на четыре характерные группы (табл. 5.1), отличающиеся степенью интеграции и плотностью компоновки.

Компоновочные структуры первой и второй групп применяются при конструировании массовой бытовой и лабораторной РЭА, а также аппаратуры, для которой требования по габаритам и надежности не являются жесткими. Структуры третьего и четвертого типов применя-

ются при конструировании РЭА, к которой предъявляются повышенные требования к надежности и га- баритам.

Исходное значение плотности компоновки для четвертой группы равно 15 см -. Анализ данных показывает, что конструкция РЭА на ИС. и МС упрощается с ростом плотности компоновки. Это объясняется тем, что сложность из конструкции аппаратуры переходит в МУ (ММ, ИС, МС) при росте их степени , интеграции. Благодаря использованию более совершенных приемов ин- тегральной технологии снижается трудоемкость и повышается надежность аппаратуры.

Конструктивной единицей РЭА на ИС и МС является функциональная ячейка (ФЯ) с каркасом или без него. Бескаркасные ФЯ представляют собой обычные ПП или МПП и применяются в аппаратуре, к которой не предъявляются жесткие требования в отношении механической прочности. В каркасных конструкциях несущим элементом служит металлическая рамка, она же является теплоотводом. Каркасные конструкции могут иметь одностороннюю (рис. 5.6), двухстороннюю и сдвоенную компоновочные схемы. ФЯ могут включать зону расположения навесных ЭРЭ. Несущая рамка с теплоотводами 3 на рис. 5.6 выполнена из алюминиевого сплава и имеет сквозные отверстия для зон межмикросхемиой коммутации и зоны, выходных отверстий или контактов.

В центральной зоне рамки к ее продольным планкам-теплоотводам с помощью демпфирующего теплоот-



5.2. Особенности РЭА на микроэлектронных компонентах 11 Э

Таблица 5 1.

Особенности конструкций РЭА 3- и 4-го поколений, выполненных на ИС и МС

Параметр

группа РЭА

Степень интеграции

1...2

3...4

2...3

Плотность компоновки

0,12

0,33

0,75

Наличие корпуса ИС, МС

Наличие корпуса РЭА:

с уплотнением

(герметичного)

(Да)

(Да)

(Да)

(Да)

Объем

Сложность конструкции

Число слоев ПП или

2; 4

2; 4

Примечания: 1. Плотность компоновки, р0ъем и сложность конструкции даны в относительных единицах. 2. РЭА 1- и 2-й групп имеет на ПП разъем и армировку, 3-й группы - печатный разъем, 4-й группы - без разъема. 3. В качестве элементной базы в РЭА I- и 2-й групп используются полупроводниковые или гибридные ИС. в 3-й - бескорпусные гибридные ИС, транзисторы и простейшие диодные матрицы, в 4-й - полупроводниковые или гибридные ИС и активные элементы в виде бескорпусных полупроводниковых ИС2 и ИСЗ на общей теплоотводящей плате в виде своеобразной непрерывной микросхемы .

водящего компаунда крепят бескорпусные гибридные ИС. Они выполняются на ситалловых подложках с навесными бескорпусными ЭРЭ. С противоположной по отношению к

ИС стороны к планкам-теплоотводам рамки через изолирующую прокладку с помощью клея крепится ПП. Электрическое соединение периферийных контактных площадок гиб-

Рис. 5.6. Несущая рамка - теплоотвод для ПП с ИС:

/ - ситалловая подложка, 2 - ЭРЭ, 3 - металлическая рамка. 4 - печатная


й>4




1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 [ 31 ] 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154

Яндекс.Метрика
© 2010 KinteRun.ru автоматическая электрика
Копирование материалов разрешено при наличии активной ссылки.